工業生產(如光電、半導體、等)過程中,潔凈室內存在許多潛在污染源,
其中最大的威脅也是最易受到控制的即是人員污染因素.
人在潔凈室活動中會產生大量的塵粒,包括:1、活性塵粒:如細菌和酵母等;2、非活性塵粒:如頭發、皮屑等;3、化學物質:如鈉、鉀、氯化物和鎂等。
目前最為有效的方法就是通過潔凈室工作服隔離清洗來捕捉并帶走塵粒,使污染物不散布到潔凈室環境中,以減少人員對潔凈室環境的污染。
作為污染控制的重要手段,潔凈服的清潔程度要求是非常高的。因為在普通的環境下清洗,會附著灰塵和細菌,以及受到水及洗凈劑的二次污染。同時,在包裝和運送過程也會增加附著灰塵及微生物的危險,所以潔凈工作服清洗必須采用特殊的清洗方法——無塵隔離清洗。